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龍文安
概要
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书目信息
高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask
by:
交通大學應用化學系; 龍文安
([NT 13] Microfilm)
, [著]
新型相移光罩之模擬與製備:石英蝕刻之半透緣邊型=simulation and fabrication of a new phase shifting mask:quartz-etchhalfton
by:
交通大學應用化學研究所; 龍文安
([NT 13] Microfilm)
積體電路電漿乾蝕刻研究:電漿清除=studies on the plasma dry etching in ic fabrication(iii):plasma stripping
by:
交通大學應用化學研究所; 龍文安
([NT 13] Microfilm)
, [著]
移轉0.35微米線幅用新型相轉移光罩之模與製備=simulation and fabrication of a new phase shifting mask for 0.35um pattern...
by:
交通大學應用化學系; 龍文安
([NT 13] Microfilm)
, [著]
積體電路電漿乾蝕刻研究(二):表面強化=studies on the plasma dry etching in vlsi fabrication(ii):surface enhancement
by:
交通大學應用化學研究所; 龍文安
([NT 13] Microfilm)
, [著]
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