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高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the hig... ~ 交通大學應用化學系

 

• 高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask

• 纪录类型:	[NT 13] Microfilm : 单行本
  其他作者:	龍文安
  团体作者:	交通大學應用化學系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1993
  面页册数:	14頁 : 11x15公分;
  附注:	NSC82-0405-E009-316

• 高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask
• 交通大學應用化學系
  
  高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask / 交通大學應用化學系 ; 龍文安 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1993. - 14頁 ; 11x15公分.
  NSC82-0405-E009-316.
  
  龍文安

• 高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask
• LDR:00471nhm 2200133 450 001 69061
  009 8514433
  100 $a  20100607d1993 0chiy0900 e
  101 $a  chi
  102 $a  tw
  200 1 $a  高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask $f  交通大學應用化學系 $g  龍文安 著
  210 $a  台北市 $c  科學技術資料中心 $d  1993
  215 $a  14頁 $d  11x15公分
  300 $a  NSC82-0405-E009-316
  702 $a  龍文安 $4  著 $3  64018
  710 $a  交通大學應用化學系 $3  62933
  801 1 $a  TW $b  大葉大學 $c  19960911
  

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条形码号	典藏地名称	馆藏流通类别	数据类型	索书号	使用类型	借阅状态	预约状态	Opac备注	附件
804340000000469	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 340 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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