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高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the hig... ~ 交通大學應用化學系

 

• 高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  其他作者:	龍文安
  團體作者:	交通大學應用化學系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1993
  面頁冊數:	14頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC82-0405-E009-316

• 高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask
• 交通大學應用化學系
  
  高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask / 交通大學應用化學系 ; 龍文安 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1993. - 14頁 ; 11x15公分.
  NSC82-0405-E009-316.
  
  龍文安

• 高敏搆光罩用電子束阻劑系統之研究 =studies on the highly sensitive electron-beam resist system for the photomask
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804340000000469	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 340 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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