胡振國
概観
| 著作: | 21 作品に 21 出版物中に 1 言語 | |
|---|---|---|
タイトル
抗輻射快速熱再氧化氮化氧化層製程之研究=radiation hard process for rapid thermal reoxidized nitrided oxides
…で:
台灣大學電機工程學系; 胡振國
(マイクロフィルム)
, [著]
光纖通訊用元件之輻射穩定度研究=radiation reliability of devices used in optical fiber communication
…で:
台灣大學電機系; 胡振國
(マイクロフィルム)
, [著]
薄膜構裝導線的電性分析=electrical analysis of wirings in thin-film packaging
…で:
台灣大學電機工程學系; 吳瑞北; 胡振國
(マイクロフィルム)
, [著]
複合式半導體微型壓力感測氣之研究:子計畫一-壓力感測器用之矽金氧半場效電晶體放大器製作及穩定=farbrication and reliabilityu
…で:
台灣大學電機工程學系; 胡振國
(マイクロフィルム)
快速熱技術在矽金氧半元件制程之應用=application of rapid thermal technique on the fabrication process of silicon mos devi
…で:
台灣大學電機工程學系; 胡振國
(マイクロフィルム)
抗輻射金氧半元件製程及電路輻射穩定度研究=studies of the radiation hard fabrication process of mos devices and the rad...
…で:
台灣大學電機系; 胡振國
(マイクロフィルム)
, [著]
類比積體電路分析與設計:analysis and design of analog intergrated circuits
…で:
Gray,Paul; Meyer,Robert; 胡振國
(言語・文字資料 (印刷物))
, [編譯]
去含氮氧化矽閘極製程製作高穩定度矽金氧半元件=stable simos devices with oxynitride gate dielectrics
…で:
台灣大學電機工程學系; 胡振國
(マイクロフィルム)
, [著]
以快速熱程序生長及退火薄閘極氧化層=thin gate oxide growth and anneal by rapid thermal process
…で:
台灣大學電機工程學研究所; 胡振國
(マイクロフィルム)
快速熱處理與輻射處理在矽閘極氧化層之應用=application of rapid thermal processing and radiztion processing on si gate....
…で:
台灣大學電機工程學系; 胡振國
(マイクロフィルム)
, [著]
詳細を表示する
より少数の