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快速熱處理與輻射處理在矽閘極氧化層之應用=application of ... ~ 台灣大學電機工程學系

 

• 快速熱處理與輻射處理在矽閘極氧化層之應用=application of rapid thermal processing and radiztion processing on si gate....

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  其他作者:	胡振國
  團體作者:	台灣大學電機工程學系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1992
  面頁冊數:	90頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC81-0404-E002-103

• 快速熱處理與輻射處理在矽閘極氧化層之應用=application of rapid thermal processing and radiztion processing on si gate....
• 台灣大學電機工程學系
  
  快速熱處理與輻射處理在矽閘極氧化層之應用=application of rapid thermal processing and radiztion processing on si gate.... / 台灣大學電機工程學系 ; 胡振國 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1992. - 90頁 ; 11x15公分.
  NSC81-0404-E002-103.
  
  胡振國

• 快速熱處理與輻射處理在矽閘極氧化層之應用=application of rapid thermal processing and radiztion processing on si gate....
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804621300000455	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 621.3 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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