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矽晶片內氧凝聚速率對晶片抗彎曲性的影響=the inflexence o... ~ 中興大學電機工程學系

 

• 矽晶片內氧凝聚速率對晶片抗彎曲性的影響=the inflexence of oxygen precipstation rate on wafer warkage resisfance

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  作者:	貢中元
  其他團體作者:	中興大學電機工程學系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  面頁冊數:	30頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC84-2215-E005-001

• 矽晶片內氧凝聚速率對晶片抗彎曲性的影響=the inflexence of oxygen precipstation rate on wafer warkage resisfance
• 貢中元
  
  矽晶片內氧凝聚速率對晶片抗彎曲性的影響=the inflexence of oxygen precipstation rate on wafer warkage resisfance / 貢中元 ; 中興大學電機工程學系 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 30頁 ; 11x15公分.
  NSC84-2215-E005-001.

• 矽晶片內氧凝聚速率對晶片抗彎曲性的影響=the inflexence of oxygen precipstation rate on wafer warkage resisfance
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804448614000005	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 448.614 1080	1.一般(Normal)	在架	0

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