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利用無參雜非晶矽/高參雜複晶矽堆疊式結構改善矽化鎢品質及mos元件氧化層...
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成功大學電機工程研究所
利用無參雜非晶矽/高參雜複晶矽堆疊式結構改善矽化鎢品質及mos元件氧化層之研究=to use undoped-a-si/heavy doped-polysilicon u
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
方炎坤
其他團體作者:
成功大學電機工程研究所
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
面頁冊數:
14頁 : 11x15公分;
附註:
NSC84-2215-E006-003
利用無參雜非晶矽/高參雜複晶矽堆疊式結構改善矽化鎢品質及mos元件氧化層之研究=to use undoped-a-si/heavy doped-polysilicon u
方炎坤
利用無參雜非晶矽/高參雜複晶矽堆疊式結構改善矽化鎢品質及mos元件氧化層之研究=to use undoped-a-si/heavy doped-polysilicon u
/ 方炎坤 ; 成功大學電機工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 14頁 ; 11x15公分.
NSC84-2215-E006-003.
利用無參雜非晶矽/高參雜複晶矽堆疊式結構改善矽化鎢品質及mos元件氧化層之研究=to use undoped-a-si/heavy doped-polysilicon u
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19991123
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全部
三樓視聽資料區
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
804621300000600
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 621.3 0094
1.一般(Normal)
在架
0
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