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化學氣相蒸鍍法在合成碳化矽薄膜之研究

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台灣工業技術學院化學工程技術系

化學氣相蒸鍍法在合成碳化矽薄膜之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	洪儒生
其他團體作者:	台灣工業技術學院化學工程技術系
出版地:	台北市
出版者:	科學技術資料中心;
面頁冊數:	106頁 : 11x15公分;
附註:	NSC84-2214-E011-015

化學氣相蒸鍍法在合成碳化矽薄膜之研究
洪儒生

化學氣相蒸鍍法在合成碳化矽薄膜之研究 / 洪儒生 ; 台灣工業技術學院化學工程技術系 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 106頁 ; 11x15公分.
NSC84-2214-E011-015.

化學氣相蒸鍍法在合成碳化矽薄膜之研究
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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804460000001320

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 460 3422 V1

1.一般(Normal)

在架

0

804460000001321

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 460 3422 V2

1.一般(Normal)

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