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化學氣相乘積氮化鈦和鋁在極大機體電路金屬連線之先導性研究=chemica...

交通大電子工程研究所

化學氣相乘積氮化鈦和鋁在極大機體電路金屬連線之先導性研究=chemical vapor deposition of totaniom nitride (tin) and aluminu

化學氣相乘積氮化鈦和鋁在極大機體電路金屬連線之先導性研究=chemical vapor deposition of totaniom nitride (tin) and aluminu
蘇翔

化學氣相乘積氮化鈦和鋁在極大機體電路金屬連線之先導性研究=chemical vapor deposition of totaniom nitride (tin) and aluminu / 蘇翔 ; 交通大電子工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 22頁 ; 11x15公分.
NSC84-2215-E009-025.
電子工程

化學氣相乘積氮化鈦和鋁在極大機體電路金屬連線之先導性研究=chemical vapor deposition of totaniom nitride (tin) and aluminu
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