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發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究

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清華大學電機工程研究所

發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃惠良
其他團體作者:	清華大學電機工程研究所
出版地:	台北市
出版者:	科學技術資料中心;
面頁冊數:	128頁 : 11x15公分;
標題:	電機工程 -
附註:	NSC84-2215-E007-023

發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
黃惠良

發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究 / 黃惠良撰 ; 清華大學電機工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 128頁 ; 11x15公分.
NSC84-2215-E007-023.
電機工程

發展[微波電漿後放氧化法]暨電子迴旋共振電漿氧化法製作極薄養化層及其可靠度之研究
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215 $a 128頁 $d 11x15公分
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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804621300000520

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 621.3 4453 V1

1.一般(Normal)

在架

0

804621300000587

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 621.3 4453 V2

1.一般(Normal)

在架

0

2 筆 • 頁數 1 •
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