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單晶cvd薄膜和融化成長法製程中之不穩定熱流與使其穩定之研究(i)-子計...

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中正理工學院航空工程學系

單晶cvd薄膜和融化成長法製程中之不穩定熱流與使其穩定之研究(i)-子計劃三:薄膜單晶成長之垂直=experimental study of flow and

レコード種別:	マイクロフィルム : モノグラフ
著者:	宋齊有
副次的な著作責任 :	中正理工學院航空工程學系
出版地:	台北市
出版された:	科學技術資料中心;
記述:	40頁 : 11x15公分;
注記:	NSC852212E014017

單晶cvd薄膜和融化成長法製程中之不穩定熱流與使其穩定之研究(i)-子計劃三:薄膜單晶成長之垂直=experimental study of flow and
宋齊有

單晶cvd薄膜和融化成長法製程中之不穩定熱流與使其穩定之研究(i)-子計劃三:薄膜單晶成長之垂直=experimental study of flow and / 宋齊有 ; 中正理工學院航空工程學系 - 台北市 : 科學技術資料中心 - 40頁 ; 11x15公分.
NSC852212E014017.

單晶cvd薄膜和融化成長法製程中之不穩定熱流與使其穩定之研究(i)-子計劃三:薄膜單晶成長之垂直=experimental study of flow and
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