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利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製...
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成大電機工程研究所
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
纪录类型:
[NT 13] Microfilm : 单行本
作者:
方炎坤
其他作者:
蘇炎坤
其他团体作者:
成大電機工程研究所
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
出版年:
1996
面页册数:
11x15公分;
附注:
NSC82-0404-E006-301
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
方炎坤
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
/ 方炎坤 著 ; 成大電機工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1996. ; 11x15公分.
NSC82-0404-E006-301.
蘇炎坤
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
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19970218
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三樓視聽資料區
馆藏
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条形码号
典藏地名称
馆藏流通类别
数据类型
索书号
使用类型
借阅状态
预约状态
Opac备注
附件
804621300000489
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 621.3 XXXX
1.一般(Normal)
在架
0
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