利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製...
成大電機工程研究所

 

  • 利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
  • 纪录类型: [NT 13] Microfilm : 单行本
    作者: 方炎坤
    其他作者: 蘇炎坤
    其他团体作者: 成大電機工程研究所
    出版地: 台北市
    出版者: 科學技術資料中心;
    出版年: 1996
    面页册数: 11x15公分;
    附注: NSC82-0404-E006-301
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804621300000489 三樓視聽資料區 3.不外借 微縮資料(microform) MF 621.3 XXXX 1.一般(Normal) 在架 0
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