利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製...
成大電機工程研究所

 

  • 利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
  • 紀錄類型: 微縮資料 : 單行本
    作者: 方炎坤
    其他作者: 蘇炎坤
    其他團體作者: 成大電機工程研究所
    出版地: 台北市
    出版者: 科學技術資料中心;
    出版年: 1996
    面頁冊數: 11x15公分;
    附註: NSC82-0404-E006-301
館藏
  • 1 筆 • 頁數 1 •
 
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