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利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製...
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成大電機工程研究所
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
方炎坤
其他作者:
蘇炎坤
其他團體作者:
成大電機工程研究所
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
出版年:
1996
面頁冊數:
11x15公分;
附註:
NSC82-0404-E006-301
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
方炎坤
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
/ 方炎坤 著 ; 成大電機工程研究所 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1996. ; 11x15公分.
NSC82-0404-E006-301.
蘇炎坤
利用uhv/cvd系統進行矽鍺磊晶薄膜之成長以及相關矽鍺光電元件之 研製=epitaxical growth of gesi films and its application on.
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19970218
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全部
三樓視聽資料區
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
804621300000489
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 621.3 XXXX
1.一般(Normal)
在架
0
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