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矽基X光光罩上鎢吸收膜之應力消除途徑=stress eliminatio... ~ 台灣工業技術學院電子工程技術系

 

• 矽基X光光罩上鎢吸收膜之應力消除途徑=stress elimination approaches of tungsten absorber metallization for silicon-based..

• 紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
  其他作者:	張澄源
  團體作者:	台灣工業技術學院電子工程技術系
  出版地:	台北市
  出版者:	科學技術資料中心;
  出版年:	1992
  面頁冊數:	38頁 : 11x15公分;
  附註:	NSC81-0404-E011-101

• 矽基X光光罩上鎢吸收膜之應力消除途徑=stress elimination approaches of tungsten absorber metallization for silicon-based..
• 台灣工業技術學院電子工程技術系
  
  矽基X光光罩上鎢吸收膜之應力消除途徑=stress elimination approaches of tungsten absorber metallization for silicon-based.. / 台灣工業技術學院電子工程技術系 ; 張澄源 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1992. - 38頁 ; 11x15公分.
  NSC81-0404-E011-101.
  
  張澄源

• 矽基X光光罩上鎢吸收膜之應力消除途徑=stress elimination approaches of tungsten absorber metallization for silicon-based..
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條碼號	典藏地名稱	館藏流通類別	資料類型	索書號	使用類型	借閱狀態	預約狀態	備註欄	附件
804621381000241	三樓視聽資料區	3.不外借	微縮資料(microform)	MF 621.381 XXXX	1.一般(Normal)	在架	0

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