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化學蒸鍍反應器內流動現象之廣效電腦模擬=simulation of fl...
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台灣大學化學工程研究所
化學蒸鍍反應器內流動現象之廣效電腦模擬=simulation of flow pattern within a cvd reactor
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
其他作者:
李克強
團體作者:
台灣大學化學工程研究所
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
出版年:
1993
面頁冊數:
141頁 : 11x15公分;
附註:
NSC82-0402-E002-066
化學蒸鍍反應器內流動現象之廣效電腦模擬=simulation of flow pattern within a cvd reactor
台灣大學化學工程研究所
化學蒸鍍反應器內流動現象之廣效電腦模擬=simulation of flow pattern within a cvd reactor
/ 台灣大學化學工程研究所 ; 李克強 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1993. - 141頁 ; 11x15公分.
NSC82-0402-E002-066.
李克強
化學蒸鍍反應器內流動現象之廣效電腦模擬=simulation of flow pattern within a cvd reactor
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大葉大學
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19960902
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全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
804460000000822
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 460 XXXX V1
1.一般(Normal)
在架
0
804460000000823
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 460 XXXX V2
1.一般(Normal)
在架
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2 筆 • 頁數 1 •
1
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