語系:
繁體中文
English
日文
簡体中文
說明(常見問題)
登入
回首頁
切換:
標籤
|
MARC模式
|
ISBD
陽極氧化法製造高品質之二氧化錫薄膜=manufacture of sno...
~
台灣工業技術學院化學工程技術系
陽極氧化法製造高品質之二氧化錫薄膜=manufacture of sno2 thin films by anodic oxidation
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
其他作者:
黃炳照
團體作者:
台灣工業技術學院化學工程技術系
出版地:
台北市
出版者:
科學技術資料中心;
出版年:
1991
面頁冊數:
55頁 : 11x15公分;
陽極氧化法製造高品質之二氧化錫薄膜=manufacture of sno2 thin films by anodic oxidation
台灣工業技術學院化學工程技術系
陽極氧化法製造高品質之二氧化錫薄膜=manufacture of sno2 thin films by anodic oxidation
/ 台灣工業技術學院化學工程技術系 ; 黃炳照 著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1991. - 55頁 ; 11x15公分.
黃炳照
陽極氧化法製造高品質之二氧化錫薄膜=manufacture of sno2 thin films by anodic oxidation
LDR
:00428nhm 2200121 450
001
65064
009
8510427
100
$a
20100607d1991 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
陽極氧化法製造高品質之二氧化錫薄膜=manufacture of sno2 thin films by anodic oxidation
$f
台灣工業技術學院化學工程技術系
$g
黃炳照 著
210
$a
台北市
$c
科學技術資料中心
$d
1991
215
$a
55頁
$d
11x15公分
702
$a
黃炳照
$4
著
$3
63962
710
$a
台灣工業技術學院化學工程技術系
$3
61868
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
19960806
筆 0 讀者評論
全部
三樓視聽資料區
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
804460000000360
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 460 XXXX
1.一般(Normal)
在架
0
1 筆 • 頁數 1 •
1
評論
新增評論
分享你的心得
Export
取書館別
處理中
...
變更密碼
登入