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快速加熱化學氣相沈積對超薄介電層和選擇性磊晶之研究(ii)=rapid ...

交通大學電子工程研究所

快速加熱化學氣相沈積對超薄介電層和選擇性磊晶之研究(ii)=rapid theraml chemical vapor deposition for ultrathin ...

快速加熱化學氣相沈積對超薄介電層和選擇性磊晶之研究(ii)=rapid theraml chemical vapor deposition for ultrathin ...
交通大學電子工程研究所

快速加熱化學氣相沈積對超薄介電層和選擇性磊晶之研究(ii)=rapid theraml chemical vapor deposition for ultrathin ... / 交通大學電子工程研究所 ; 孫嘉眾著 - 台北市 : 科學技術資料中心, 1994. - 92頁 ; 11x15公分.
NSC83-0404-E009-073.

孫嘉眾

快速加熱化學氣相沈積對超薄介電層和選擇性磊晶之研究(ii)=rapid theraml chemical vapor deposition for ultrathin ...
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200 1 $a 快速加熱化學氣相沈積對超薄介電層和選擇性磊晶之研究(ii)=rapid theraml chemical vapor deposition for ultrathin ... $f 交通大學電子工程研究所 $g 孫嘉眾著 $g 蘇翔著
210 $a 台北市 $c 科學技術資料中心 $d 1994
215 $a 92頁 $d 11x15公分
300 $a NSC83-0404-E009-073
702 $a 孫嘉眾 $4 著 $3 62847
702 $a 蘇翔 $4 著 $3 62312
710 $a 交通大學電子工程研究所 $3 61980
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 19960719