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鐵鹽促進h202/uv氧化程序中氫氣自由基濃度與目標污染物去除率之關係
~
康世芳
鐵鹽促進h202/uv氧化程序中氫氣自由基濃度與目標污染物去除率之關係
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
柏雪翠
其他作者:
許聖哲
其他作者:
康世芳
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
131頁 : 11x15公分;
附註:
MOE86-1005-6853
鐵鹽促進h202/uv氧化程序中氫氣自由基濃度與目標污染物去除率之關係
柏雪翠
鐵鹽促進h202/uv氧化程序中氫氣自由基濃度與目標污染物去除率之關係
/ 柏雪翠 撰 ; 許聖哲 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 131頁 ; 11x15公分.
MOE86-1005-6853.
許聖哲
鐵鹽促進h202/uv氧化程序中氫氣自由基濃度與目標污染物去除率之關係
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