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液晶薄膜剪切流在旋轉磁場規範下之多重解及分歧現象研究=the bifur...
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私立中原大學機械工程研究所
液晶薄膜剪切流在旋轉磁場規範下之多重解及分歧現象研究=the bifurcations in shear flow of liquid crystal controled by
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
其他作者:
蔡瑞益
團體作者:
私立中原大學機械工程研究所
出版者:
科學技術資料中心;
出版年:
1997
面頁冊數:
62頁 : 11x15公分;
附註:
NSc84-2212-E033-001
液晶薄膜剪切流在旋轉磁場規範下之多重解及分歧現象研究=the bifurcations in shear flow of liquid crystal controled by
私立中原大學機械工程研究所
液晶薄膜剪切流在旋轉磁場規範下之多重解及分歧現象研究=the bifurcations in shear flow of liquid crystal controled by
/ 私立中原大學機械工程研究所 ; 蔡瑞益 : 科學技術資料中心, 1997. - 62頁 ; 11x15公分.
NSc84-2212-E033-001.
蔡瑞益
液晶薄膜剪切流在旋轉磁場規範下之多重解及分歧現象研究=the bifurcations in shear flow of liquid crystal controled by
LDR
:00438nhm 2200121 450
001
320930
009
8804388
100
$a
20100726d1997 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
液晶薄膜剪切流在旋轉磁場規範下之多重解及分歧現象研究=the bifurcations in shear flow of liquid crystal controled by
$f
私立中原大學機械工程研究所
$g
蔡瑞益
210
$c
科學技術資料中心
$d
1997
215
$a
62頁
$d
11x15公分
300
$a
NSc84-2212-E033-001
702
$a
蔡瑞益
$3
78718
710
$a
私立中原大學機械工程研究所
$3
78844
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