大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

以二氧化碳雷射退火法製作矽化鈦薄膜性質之研究

~

清華大學材料科學工程所

以二氧化碳雷射退火法製作矽化鈦薄膜性質之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	陳維釧
其他團體作者:	清華大學材料科學工程所
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	110頁 : 11x15公分;
標題:	工程材料 -
附註:	MOE88-0002-853558

以二氧化碳雷射退火法製作矽化鈦薄膜性質之研究
陳維釧

以二氧化碳雷射退火法製作矽化鈦薄膜性質之研究 / 陳維釧撰 ; 清華大學材料科學工程所 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 110頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-853558.
工程材料

以二氧化碳雷射退火法製作矽化鈦薄膜性質之研究
LDR:00415nhm 2200133 450 001 306038
009 9128663
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 以二氧化碳雷射退火法製作矽化鈦薄膜性質之研究 $f 陳維釧撰 $g 清華大學材料科學工程所
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 110頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0002-853558
606 $a 工程材料 $3 14660
700 $a 陳維釧 $4 撰 $3 329459
712 $a 清華大學材料科學工程所 $3 317506
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20030116

筆 0 讀者評論

館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833440300000764

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 7528 V1

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

833440300000765

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 7528 V2

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

2 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入