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金屬化學氣相沉積技術與電化學方式沈積銅導線在積體電路金屬化製程之應用與研究
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清華大學材料科學工程所
金屬化學氣相沉積技術與電化學方式沈積銅導線在積體電路金屬化製程之應用與研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
胡榮治
其他團體作者:
清華大學材料科學工程所
出版地:
台北市
出版者:
行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:
1999
面頁冊數:
168頁 : 11x15公分;
標題:
工程材料 -
附註:
MOE88-0002-847509-D
金屬化學氣相沉積技術與電化學方式沈積銅導線在積體電路金屬化製程之應用與研究
胡榮治
金屬化學氣相沉積技術與電化學方式沈積銅導線在積體電路金屬化製程之應用與研究
/ 胡榮治 撰 ; 清華大學材料科學工程所 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 168頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-847509-D.
工程材料
金屬化學氣相沉積技術與電化學方式沈積銅導線在積體電路金屬化製程之應用與研究
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20030116
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