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以氫化物磊晶法成長氮化鎵基板
~
國立交通大學電子工程研究所
以氫化物磊晶法成長氮化鎵基板
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
施敏
其他團體作者:
國立交通大學電子工程研究所
出版地:
台北市
出版者:
行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:
38頁 : 11x15公分;
標題:
電子工程 -
附註:
NSC86-2215-E009-048
以氫化物磊晶法成長氮化鎵基板
施敏
以氫化物磊晶法成長氮化鎵基板
/ 施敏 撰 ; 國立交通大學電子工程研究所 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 38頁 ; 11x15公分.
NSC86-2215-E009-048.
電子工程
以氫化物磊晶法成長氮化鎵基板
LDR
:00381nhm 2200133 450
001
302505
009
9110779
100
$a
20100608 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
以氫化物磊晶法成長氮化鎵基板
$f
施敏 撰
$g
國立交通大學電子工程研究所
210
$a
台北市
$c
行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215
$a
38頁
$d
11x15公分
300
$a
NSC86-2215-E009-048
606
$a
電子工程
$3
505
700
$a
施敏
$4
撰
$3
2914
712
$a
國立交通大學電子工程研究所
$3
63334
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20020326
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全部
三樓視聽資料區
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
804448600000682
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 0888
1.一般(Normal)
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0
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