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選擇性磊晶成長之矽化鍺薄膜的穩定性研究

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國立中興大學電機工程學系

選擇性磊晶成長之矽化鍺薄膜的穩定性研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	貢中元
其他團體作者:	國立中興大學電機工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	17頁 : 11x15公分;
標題:	電機工程 -
附註:	NSC85-2215-E005-003

選擇性磊晶成長之矽化鍺薄膜的穩定性研究
貢中元

選擇性磊晶成長之矽化鍺薄膜的穩定性研究 / 貢中元撰 ; 國立中興大學電機工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 17頁 ; 11x15公分.
NSC85-2215-E005-003.
電機工程

選擇性磊晶成長之矽化鍺薄膜的穩定性研究
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

804621300000854

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 621.3 1051

1.一般(Normal)

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