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子計畫二:薄膜單晶成長之垂直式cvd反應器內流動與熱傳之數值研究(ii)

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國立交通大學機械工程學系

子計畫二:薄膜單晶成長之垂直式cvd反應器內流動與熱傳之數值研究(ii)

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	崔燕勇
其他團體作者:	國立交通大學機械工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	97頁 : 11x15公分;
標題:	機械工程 -
附註:	NSC86-2212-E009-045

子計畫二:薄膜單晶成長之垂直式cvd反應器內流動與熱傳之數值研究(ii)
崔燕勇

子計畫二:薄膜單晶成長之垂直式cvd反應器內流動與熱傳之數值研究(ii) / 崔燕勇撰 ; 國立交通大學機械工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 97頁 ; 11x15公分.
NSC86-2212-E009-045.
機械工程

子計畫二:薄膜單晶成長之垂直式cvd反應器內流動與熱傳之數值研究(ii)
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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804621000000341

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 621 2241 V1

1.一般(Normal)

在架

0

804621000000342

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 621 2241 V2

1.一般(Normal)

在架

0

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