大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

二氧化碳雷射表面塗層加工技術之研究子計畫二:臭氧氣氛下二氧化碳雷射成長單...

~

國立中山大學材料科學工程研究所

二氧化碳雷射表面塗層加工技術之研究子計畫二:臭氧氣氛下二氧化碳雷射成長單一氧化化物技術開發之

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	謝光宇
其他團體作者:	國立中山大學材料科學工程研究所
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	74頁 : 11x15公分;
標題:	材料工程 -
附註:	NSC85-2216-E110-012

二氧化碳雷射表面塗層加工技術之研究子計畫二:臭氧氣氛下二氧化碳雷射成長單一氧化化物技術開發之
謝光宇

二氧化碳雷射表面塗層加工技術之研究子計畫二:臭氧氣氛下二氧化碳雷射成長單一氧化化物技術開發之 / 謝光宇撰 ; 國立中山大學材料科學工程研究所 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 74頁 ; 11x15公分.
NSC85-2216-E110-012.
材料工程

二氧化碳雷射表面塗層加工技術之研究子計畫二:臭氧氣氛下二氧化碳雷射成長單一氧化化物技術開發之
LDR:00484nhm 2200133 450 001 299857
009 9103222
100 $a 20100608 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 二氧化碳雷射表面塗層加工技術之研究子計畫二:臭氧氣氛下二氧化碳雷射成長單一氧化化物技術開發之 $f 謝光宇撰 $g 國立中山大學材料科學工程研究所
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215 $a 74頁 $d 11x15公分
300 $a NSC85-2216-E110-012
606 $a 材料工程 $3 79401
700 $a 謝光宇 $4 撰 $3 62872
712 $a 國立中山大學材料科學工程研究所 $3 78853
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20020125

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804440300000774

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 0193

1.一般(Normal)

在架

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入