大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及...

~

國立清華大學電機工程學系

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃惠良
其他團體作者:	國立清華大學電機工程學系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	129頁 : 11x15公分;
標題:	電機工程 -
附註:	NSC85-2215-E007-025

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究
黃惠良

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究 / 黃惠良撰 ; 國立清華大學電機工程學系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 129頁 ; 11x15公分.
NSC85-2215-E007-025.
電機工程

發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究
LDR:00461nhm 2200133 450 001 299465
009 9102582
100 $a 20100608 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 發展"微波電漿放電後氧化法"暨"電子迴旋共振電漿氧化法"製作極薄氧化層及其可靠度之研究 $f 黃惠良撰 $g 國立清華大學電機工程學系
210 $a 台北市 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心
215 $a 129頁 $d 11x15公分
300 $a NSC85-2215-E007-025
606 $a 電機工程 $3 9918
700 $a 黃惠良 $4 撰 $3 62284
712 $a 國立清華大學電機工程學系 $3 61044
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20020121

筆 0 讀者評論

館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804621300000656

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 621.3 4453-1 V1

1.一般(Normal)

在架

0

804621300000657

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 621.3 4453-1 V2

1.一般(Normal)

在架

0

2 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入