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氮化反應對砷在<100>矽晶片中擴散之效應研究

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國立台灣科技大學化學工程系

氮化反應對砷在<100>矽晶片中擴散之效應研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	李嘉平
其他團體作者:	國立台灣科技大學化學工程系
出版地:	台北市
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
面頁冊數:	147頁 : 11x15公分;
標題:	化學工程 -
附註:	NSC85-2214-E011-014

氮化反應對砷在<100>矽晶片中擴散之效應研究
李嘉平

氮化反應對砷在<100>矽晶片中擴散之效應研究 / 李嘉平撰 ; 國立台灣科技大學化學工程系 - 台北市 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 - 147頁 ; 11x15公分.
NSC85-2214-E011-014.
化學工程

氮化反應對砷在<100>矽晶片中擴散之效應研究
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館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

804460000001495

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 460 4041-A2 V1

1.一般(Normal)

在架

0

804460000001496

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 460 4041-A2 V2

1.一般(Normal)

在架

0

2 筆 • 頁數 1 •
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