大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

磁子濺鍍法成長之氧化鉭（ta2o5）薄膜在光電元件上之應用

~

中山大學材料科學所

磁子濺鍍法成長之氧化鉭（ta2o5）薄膜在光電元件上之應用

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	莊妙如
其他團體作者:	中山大學材料科學所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	111頁 : 11x15公分;
標題:	材料科學 -
附註:	MOE88-0009-8436802-D

磁子濺鍍法成長之氧化鉭（ta2o5）薄膜在光電元件上之應用
莊妙如

磁子濺鍍法成長之氧化鉭（ta2o5）薄膜在光電元件上之應用 / 莊妙如撰 ; 中山大學材料科學所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 111頁 ; 11x15公分.
MOE88-0009-8436802-D.
材料科學

磁子濺鍍法成長之氧化鉭（ta2o5）薄膜在光電元件上之應用
LDR:00412nhm 2200133 450 001 292370
009 9206391
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 磁子濺鍍法成長之氧化鉭（ta2o5）薄膜在光電元件上之應用 $f 莊妙如撰 $g 中山大學材料科學所
210 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 111頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0009-8436802-D
606 $a 材料科學 $3 76284
700 $a 莊妙如 $4 撰 $3 320520
712 $a 中山大學材料科學所 $3 320497
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20030328

筆 0 讀者評論

館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833440300001039

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 4444-A V1

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

833440300001040

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 4444-A V2

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

2 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入