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射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究

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中央大學光電科學所

射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	劉旻忠
其他團體作者:	中央大學光電科學所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	86頁 : 11x15公分;
標題:	光電科學 -
附註:	MOE88-0008-87226015

射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究
劉旻忠

射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究 / 劉旻忠撰 ; 中央大學光電科學所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 86頁 ; 11x15公分.
MOE88-0008-87226015.
光電科學

射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究
LDR:00375nhm 2200133 450 001 291979
009 9205999
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究 $f 劉旻忠撰 $g 中央大學光電科學所
210 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 86頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0008-87226015
606 $a 光電科學 $3 73689
700 $a 劉旻忠 $4 撰 $3 320189
712 $a 中央大學光電科學所 $3 320011
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20030321

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典藏地名稱

館藏流通類別

833337800000042

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微縮資料(microform)

MF 337.8 7264

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