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氨氣電漿處理後溫差液相沈積含氟氧化膜在銅製程上之應用與可靠性分析

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交通大學電子工程所

氨氣電漿處理後溫差液相沈積含氟氧化膜在銅製程上之應用與可靠性分析

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	陳啟明
其他團體作者:	交通大學電子工程所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	85頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE88-0007-8711516

氨氣電漿處理後溫差液相沈積含氟氧化膜在銅製程上之應用與可靠性分析
陳啟明

氨氣電漿處理後溫差液相沈積含氟氧化膜在銅製程上之應用與可靠性分析 / 陳啟明撰 ; 交通大學電子工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 85頁 ; 11x15公分.
MOE88-0007-8711516.
電子工程

氨氣電漿處理後溫差液相沈積含氟氧化膜在銅製程上之應用與可靠性分析
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600001013

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 7536-1

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