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cvd cu基本沈積特性及矽化鉭障礙層的熱穩定性之研究

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交通大學電子工程所

cvd cu基本沈積特性及矽化鉭障礙層的熱穩定性之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	古紹露
其他團體作者:	交通大學電子工程所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	83頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE88-0007-8711515

cvd cu基本沈積特性及矽化鉭障礙層的熱穩定性之研究
古紹露

cvd cu基本沈積特性及矽化鉭障礙層的熱穩定性之研究 / 古紹露撰 ; 交通大學電子工程所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 83頁 ; 11x15公分.
MOE88-0007-8711515.
電子工程

cvd cu基本沈積特性及矽化鉭障礙層的熱穩定性之研究
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600001012

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 4021-A

1.一般(Normal)

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