大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

半導體微影製程阻劑之修飾與其廢水處理

~

吳澤欽

半導體微影製程阻劑之修飾與其廢水處理

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	吳澤欽
其他團體作者:	清華大學原子科學所
出版者:	行政院國家科學委員會科學技術資料中心;
出版年:	1999
面頁冊數:	122頁 : 11x15公分;
標題:	原子科學 -
附註:	MOE88-0002-874537

半導體微影製程阻劑之修飾與其廢水處理
吳澤欽

半導體微影製程阻劑之修飾與其廢水處理 / 吳澤欽撰 ; 清華大學原子科學所 : 行政院國家科學委員會科學技術資料中心, 1999. - 122頁 ; 11x15公分.
MOE88-0002-874537.
原子科學

半導體微影製程阻劑之修飾與其廢水處理
LDR:00386nhm 2200133 450 001 288712
009 9201890
100 $a 20100608d1999 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 半導體微影製程阻劑之修飾與其廢水處理 $f 吳澤欽撰 $g 清華大學原子科學所
210 $c 行政院國家科學委員會科學技術資料中心 $d 1999
215 $a 122頁 $d 11x15公分
300 $a MOE88-0002-874537
606 $a 原子科學 $3 101700
700 $a 吳澤欽 $4 撰 $3 317468
712 $a 清華大學原子科學所 $3 317449
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20030130

筆 0 讀者評論

館藏

2 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833339000000094

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 339 2638 V1

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

833339000000095

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 339 2638 V2

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

2 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入