大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

Plasma processes for semiconductor f...

~

HitchonW.N.G. ed.

Plasma processes for semiconductor fabrication

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
書名/作者:	Plasma processes for semiconductor fabrication/ Hitchon,W.N.G. ed.
作者:	HitchonW.N.G. ed.
出版者:	New York : Computer Science Press, 1999
面頁冊數:	221頁; 27x19公分
標題:	Semiconductors-Etching.
標題:	Plasma etching.
ISBN:	0521591759(精裝)

Plasma processes for semiconductor fabrication
HitchonW.N.G. ed.

Plasma processes for semiconductor fabricationHitchon,W.N.G. ed. - 1ST ED. - New YorkComputer Science Press1999 - 221頁27x19公分

ISBN: 0521591759(精裝)Subjects--Topical Terms:

183606
Semiconductors-Etching.

Plasma processes for semiconductor fabrication
LDR:00376nam 2200145 450 001 174972
008 100623t1999 us a a 000 0 eng d
020 $a 0521591759(精裝)
035 $a 9115945
040 $b eng $c DYU
041 $a eng
044 $a us
100 $a HitchonW.N.G. ed. $3 183605
245 1 0 $a Plasma processes for semiconductor fabrication $c Hitchon,W.N.G. ed.
250 $a 1ST ED.
260 $a New York $b Computer Science Press $c 1999
300 $a 221頁 $c 27x19公分
650 $a Semiconductors-Etching. $3 183606
650 $a Plasma etching. $3 183607

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

801621381500548

四樓西文圖書區

1.圖書流通

圖書(book)

621.3815 H637

1.一般(Normal)

在架

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入