語系:
繁體中文
English
日文
簡体中文
說明(常見問題)
登入
回首頁
切換:
標籤
|
MARC模式
|
ISBD
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
~
賴俊義
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
賴俊義
出版地:
台北巿
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
123頁 :
標題:
電子工程 -
附註:
MOE87-1004-8676005;高慧玲 指導教授
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
賴俊義
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
/ 賴俊義 撰 - 台北巿 : 國科會科學技術資料中心 - 123頁.
MOE87-1004-8676005;高慧玲 指導教授.
電子工程
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
LDR
:00392nhm 2200133 450
001
131550
009
9004613
100
$a
20100607 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
以多靶式射頻濺鍍系統沉積高介電常數之鈦酸鍶鋇薄膜之研究
$f
賴俊義 撰
210
$a
台北巿
$c
國科會科學技術資料中心
215
$a
123頁
300
$a
MOE87-1004-8676005;高慧玲 指導教授
606
$a
電子工程
$3
505
700
$a
賴俊義
$4
撰
$3
120603
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20010205
筆 0 讀者評論
全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
833448600000789
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 5728-A V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833448600000790
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 5728-A V2
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
2 筆 • 頁數 1 •
1
評論
新增評論
分享你的心得
Export
取書館別
處理中
...
變更密碼
登入