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利用n2+離子佈植處理複晶矽/非晶矽薄膜對矽化鈷熱穩定性改善之研究

~

黃奕介

利用n2+離子佈植處理複晶矽/非晶矽薄膜對矽化鈷熱穩定性改善之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃奕介
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	78頁 :
標題:	電子工程 -
附註:	MOE89-0007-8621515；張國明，陳衛國指導教授

利用n2+離子佈植處理複晶矽/非晶矽薄膜對矽化鈷熱穩定性改善之研究
黃奕介

利用n2+離子佈植處理複晶矽/非晶矽薄膜對矽化鈷熱穩定性改善之研究 / 黃奕介撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 78頁.
MOE89-0007-8621515；張國明，陳衛國指導教授.
電子工程

利用n2+離子佈植處理複晶矽/非晶矽薄膜對矽化鈷熱穩定性改善之研究
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210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
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300 $a MOE89-0007-8621515；張國明，陳衛國指導教授
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700 $a 黃奕介 $4 撰 $3 119250
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20010131

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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000692

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 4408-A

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