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化學機械研磨技術和n2o退火對複晶矽氧化層特性之影響
~
陳建宏
化學機械研磨技術和n2o退火對複晶矽氧化層特性之影響
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
陳建宏
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
118頁 :
標題:
電子工程 -
附註:
MOE87-0007-8611532；雷添福 指導教授
化學機械研磨技術和n2o退火對複晶矽氧化層特性之影響
陳建宏
化學機械研磨技術和n2o退火對複晶矽氧化層特性之影響
/ 陳建宏 撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 118頁.
MOE87-0007-8611532；雷添福 指導教授.
電子工程
化學機械研磨技術和n2o退火對複晶矽氧化層特性之影響
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20010118
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
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典藏地名稱
館藏流通類別
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833448600000539
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1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
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微縮資料(microform)
MF 448.6 7513 V2
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