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電漿處理後溫差液相沈積含氟矽氧化膜特性之研究及其在銅製程上之應用
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吳國豪
電漿處理後溫差液相沈積含氟矽氧化膜特性之研究及其在銅製程上之應用
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
吳國豪
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
165頁 :
標題:
電子工程 -
附註:
MOE87-0007-8611507；葉清發 指導教授
電漿處理後溫差液相沈積含氟矽氧化膜特性之研究及其在銅製程上之應用
吳國豪
電漿處理後溫差液相沈積含氟矽氧化膜特性之研究及其在銅製程上之應用
/ 吳國豪 撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 165頁.
MOE87-0007-8611507；葉清發 指導教授.
電子工程
電漿處理後溫差液相沈積含氟矽氧化膜特性之研究及其在銅製程上之應用
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20010118
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館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
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1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
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三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 2660 V2
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