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高濃度硼摻雜矽層蝕刻與應力之研究與應用

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賴俊仁

高濃度硼摻雜矽層蝕刻與應力之研究與應用

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	賴俊仁
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	88頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE87-0002-865011; 黃瑞星指導教授

高濃度硼摻雜矽層蝕刻與應力之研究與應用
賴俊仁

高濃度硼摻雜矽層蝕刻與應力之研究與應用 / 賴俊仁撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 88頁 ; 11x15公分.
MOE87-0002-865011; 黃瑞星指導教授.
電子工程

高濃度硼摻雜矽層蝕刻與應力之研究與應用
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000491

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 5722

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