大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

應力對鐵矽化合物生成之影響

~

隢曉慈

應力對鐵矽化合物生成之影響

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	隢曉慈
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	72頁 : 11x15公分;
標題:	工程材料 -
附註:	MOE87-0002-863532; 陳力俊指導教授

應力對鐵矽化合物生成之影響
隢曉慈

應力對鐵矽化合物生成之影響 / 隢曉慈撰 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 72頁 ; 11x15公分.
MOE87-0002-863532; 陳力俊指導教授.
工程材料

應力對鐵矽化合物生成之影響
LDR:00362nhm 2200133 450 001 113167
009 8923506
100 $a 20100607 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 應力對鐵矽化合物生成之影響 $f 隢曉慈撰
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 72頁 $d 11x15公分
300 $a MOE87-0002-863532; 陳力俊指導教授
606 $a 工程材料 $3 14660
700 $a 隢曉慈 $4 撰 $3 102917
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20001121

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833440300000327

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 440.3 7468

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入