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透過金屬繞線層配置降低半導體製造時之天線效應

~

朱立

透過金屬繞線層配置降低半導體製造時之天線效應

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	朱立
其他作者:	林永隆
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	49頁 : 11x15公分;
標題:	資訊工程 -
附註:	MOE86-0002-844356

透過金屬繞線層配置降低半導體製造時之天線效應
朱立

透過金屬繞線層配置降低半導體製造時之天線效應 / 朱立撰 ; 林永隆指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 49頁 ; 11x15公分.
MOE86-0002-844356.
資訊工程

林永隆

透過金屬繞線層配置降低半導體製造時之天線效應
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215 $a 49頁 $d 11x15公分
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801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000623

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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833312930000333

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 312.93 2500

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