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氮化鋁薄膜成長與表面聲波元件研究
~
施秉嘉
氮化鋁薄膜成長與表面聲波元件研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
施秉嘉
其他作者:
高慧玲
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
106頁 : 11x15公分;
標題:
電子工程 -
附註:
MOE86-1004-8576004
氮化鋁薄膜成長與表面聲波元件研究
施秉嘉
氮化鋁薄膜成長與表面聲波元件研究
/ 施秉嘉 撰 ; 高慧玲 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 106頁 ; 11x15公分.
MOE86-1004-8576004.
電子工程
高慧玲
氮化鋁薄膜成長與表面聲波元件研究
LDR
:00367nhm 2200133 450
001
109829
009
8913939
100
$a
20100607 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
氮化鋁薄膜成長與表面聲波元件研究
$f
施秉嘉 撰
$g
高慧玲 指導
210
$a
台北市
$c
國科會科學技術資料中心
215
$a
106頁
$d
11x15公分
300
$a
MOE86-1004-8576004
606
$a
電子工程
$3
505
700
$a
施秉嘉
$4
撰
$3
99454
702
$a
高慧玲
$4
指導
$3
78577
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20000613
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全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
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借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
833448600000432
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 0824-A V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833448600000433
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 0824-A V2
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
2 筆 • 頁數 1 •
1
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