語系:
繁體中文
English
日文
簡体中文
說明(常見問題)
登入
回首頁
切換:
標籤
|
MARC模式
|
ISBD
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
~
凌國基
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
王福堂
其他作者:
凌國基
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
118頁 : 11x15公分;
標題:
物理 -
附註:
MOE86-1002-484326153
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
王福堂
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
/ 王福堂 撰 ; 凌國基 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 118頁 ; 11x15公分.
MOE86-1002-484326153.
物理
凌國基
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
LDR
:00402nhm 2200133 450
001
109718
009
8913746
100
$a
20100607 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
射頻電漿濺鍍法成長添加氟化鋇之鈦酸鋇薄膜之介電性質研究
$f
王福堂 撰
$g
凌國基 指導
210
$a
台北市
$c
國科會科學技術資料中心
215
$a
118頁
$d
11x15公分
300
$a
MOE86-1002-484326153
606
$a
物理
$3
2573
700
$a
王福堂
$4
撰
$3
99331
702
$a
凌國基
$4
指導
$3
64667
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20000612
筆 0 讀者評論
全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
833330000000108
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 330 1039 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833330000000109
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 330 1039 V2
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
2 筆 • 頁數 1 •
1
評論
新增評論
分享你的心得
Export
取書館別
處理中
...
變更密碼
登入