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積體電路平坦化製程化學機械研磨法之研究

~

吳健立

積體電路平坦化製程化學機械研磨法之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	吳健立
其他作者:	呂維成
其他作者:	許覺良
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	68頁 : 11x15公分;
標題:	機械工程 -
附註:	MOE86-0102-8503057

積體電路平坦化製程化學機械研磨法之研究
吳健立

積體電路平坦化製程化學機械研磨法之研究 / 吳健立撰 ; 呂維成指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 68頁 ; 11x15公分.
MOE86-0102-8503057.
機械工程

呂維成

積體電路平坦化製程化學機械研磨法之研究
LDR:00393nhm 2200133 450 001 108999
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101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 積體電路平坦化製程化學機械研磨法之研究 $f 吳健立撰 $g 呂維成指導 $g 許覺良指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 68頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0102-8503057
606 $a 機械工程 $3 15001
700 $a 吳健立 $4 撰 $3 98534
702 $a 呂維成 $4 指導 $3 98535
702 $a 許覺良 $4 指導 $3 8868
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000609

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館藏

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1

典藏地名稱

館藏流通類別

833446000000513

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 446 2620-A

1.一般(Normal)

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