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以濺鍍法成長鈮酸鋰高介電薄膜之研究

~

陳世忠

以濺鍍法成長鈮酸鋰高介電薄膜之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	黃安祺
其他作者:	陳世忠
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	82頁 : 11x15公分;
標題:	電子與資訊工程 -
附註:	MOE86-0115-8513719

以濺鍍法成長鈮酸鋰高介電薄膜之研究
黃安祺

以濺鍍法成長鈮酸鋰高介電薄膜之研究 / 黃安祺撰 ; 陳世忠指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 82頁 ; 11x15公分.
MOE86-0115-8513719.
電子與資訊工程

陳世忠

以濺鍍法成長鈮酸鋰高介電薄膜之研究
LDR:00369nhm 2200133 450 001 107702
009 8911350
100 $a 20100607 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 以濺鍍法成長鈮酸鋰高介電薄膜之研究 $f 黃安祺撰 $g 陳世忠指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 82頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0115-8513719
606 $a 電子與資訊工程 $3 97094
700 $a 黃安祺 $4 撰 $3 97109
702 $a 陳世忠 $4 指導 $3 97110
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000602

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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448870000027

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.87 4433

1.一般(Normal)

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