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光微影蝕刻技術中濾波效應之分析

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李俊佑

光微影蝕刻技術中濾波效應之分析

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	李俊佑
其他作者:	蘇德欽
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	96頁 : 11x15公分;
標題:	光電工程 -
附註:	MOE86-0007-8524521

光微影蝕刻技術中濾波效應之分析
李俊佑

光微影蝕刻技術中濾波效應之分析 / 李俊佑撰 ; 蘇德欽指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 96頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8524521.
光電工程

蘇德欽

光微影蝕刻技術中濾波效應之分析
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200 1 $a 光微影蝕刻技術中濾波效應之分析 $f 李俊佑撰 $g 蘇德欽指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 96頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0007-8524521
606 $a 光電工程 $3 68486
700 $a 李俊佑 $4 撰 $3 95892
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801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000527

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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000307

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 4022

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