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表面成象矽化光阻曝光及蝕刻過程之模擬

~

林宏文

表面成象矽化光阻曝光及蝕刻過程之模擬

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	林宏文
其他作者:	賴英杰
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	66頁 : 11x15公分;
標題:	光電工程 -
附註:	MOE86-0007-8524515

表面成象矽化光阻曝光及蝕刻過程之模擬
林宏文

表面成象矽化光阻曝光及蝕刻過程之模擬 / 林宏文撰 ; 賴英杰指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 66頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8524515.
光電工程

賴英杰

表面成象矽化光阻曝光及蝕刻過程之模擬
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200 1 $a 表面成象矽化光阻曝光及蝕刻過程之模擬 $f 林宏文撰 $g 賴英杰指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 66頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0007-8524515
606 $a 光電工程 $3 68486
700 $a 林宏文 $4 撰 $3 95885
702 $a 賴英杰 $4 指導 $3 90586
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000527

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館藏

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1

典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000300

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 4430-B

1.一般(Normal)

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