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氮化嫁之緩衝層對其電性與深能階之影響

~

吳迪賢

氮化嫁之緩衝層對其電性與深能階之影響

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	吳迪賢
其他作者:	李威儀
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	39頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE86-0007-8521510

氮化嫁之緩衝層對其電性與深能階之影響
吳迪賢

氮化嫁之緩衝層對其電性與深能階之影響 / 吳迪賢撰 ; 李威儀指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 39頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8521510.
電子工程

李威儀

氮化嫁之緩衝層對其電性與深能階之影響
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210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 39頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0007-8521510
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館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000256

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 2637

1.一般(Normal)

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