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使用化學機械研磨技術研究複晶矽氧化層之特性
~
王銘芳
使用化學機械研磨技術研究複晶矽氧化層之特性
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
王銘芳
其他作者:
雷添福
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
122頁 : 11x15公分;
標題:
電子工程 -
附註:
MOE86-0007-8511507
使用化學機械研磨技術研究複晶矽氧化層之特性
王銘芳
使用化學機械研磨技術研究複晶矽氧化層之特性
/ 王銘芳 撰 ; 雷添福 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 122頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511507.
電子工程
雷添福
使用化學機械研磨技術研究複晶矽氧化層之特性
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20000525
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全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
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833448600000231
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 1084 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833448600000232
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 1084 V2
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2 筆 • 頁數 1 •
1
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