大葉大學圖書館 |

語系: 繁體中文

說明(常見問題)

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

電漿處理對複晶矽薄膜電晶體性之研究

~

張國明

電漿處理對複晶矽薄膜電晶體性之研究

紀錄類型:	微縮資料 : 單行本
作者:	郭志遠
其他作者:	張國明
出版地:	台北市
出版者:	國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:	70頁 : 11x15公分;
標題:	電子工程 -
附註:	MOE86-0007-8511506

電漿處理對複晶矽薄膜電晶體性之研究
郭志遠

電漿處理對複晶矽薄膜電晶體性之研究 / 郭志遠撰 ; 張國明指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 70頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511506.
電子工程

張國明

電漿處理對複晶矽薄膜電晶體性之研究
LDR:00369nhm 2200133 450 001 106003
009 8909480
100 $a 20100607 0chiy0900 e
101 $a chi
102 $a tw
200 1 $a 電漿處理對複晶矽薄膜電晶體性之研究 $f 郭志遠撰 $g 張國明指導
210 $a 台北市 $c 國科會科學技術資料中心
215 $a 70頁 $d 11x15公分
300 $a MOE86-0007-8511506
606 $a 電子工程 $3 505
700 $a 郭志遠 $4 撰 $3 95307
702 $a 張國明 $4 指導 $3 36649
801 1 $a TW $b 大葉大學 $c 20000525

筆 0 讀者評論

館藏

1 筆 • 頁數 1 •
1

典藏地名稱

館藏流通類別

833448600000230

三樓視聽資料區

3.不外借

微縮資料(microform)

MF 448.6 0743

1.一般(Normal)

限閱(視聽區)

0

1 筆 • 頁數 1 •
1

評論

新增評論分享你的心得

Export

取書館別

變更密碼

登入