語系:
繁體中文
English
日文
簡体中文
說明(常見問題)
登入
回首頁
切換:
標籤
|
MARC模式
|
ISBD
低溫製作複晶矽薄膜電晶體關鍵製程技術之研究
~
呂正宇
低溫製作複晶矽薄膜電晶體關鍵製程技術之研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
呂正宇
其他作者:
葉清發
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
159頁 : 11x15公分;
標題:
電子工程 -
附註:
MOE86-0007-8511546
低溫製作複晶矽薄膜電晶體關鍵製程技術之研究
呂正宇
低溫製作複晶矽薄膜電晶體關鍵製程技術之研究
/ 呂正宇 撰 ; 葉清發 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 159頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511546.
電子工程
葉清發
低溫製作複晶矽薄膜電晶體關鍵製程技術之研究
LDR
:00382nhm 2200133 450
001
105788
009
8909236
100
$a
20100607 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
低溫製作複晶矽薄膜電晶體關鍵製程技術之研究
$f
呂正宇 撰
$g
葉清發 指導
210
$a
台北市
$c
國科會科學技術資料中心
215
$a
159頁
$d
11x15公分
300
$a
MOE86-0007-8511546
606
$a
電子工程
$3
505
700
$a
呂正宇
$4
撰
$3
95071
702
$a
葉清發
$4
指導
$3
61986
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20000524
筆 0 讀者評論
全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
備註欄
附件
833448600000168
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 6013 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833448600000169
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 6013 V2
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
2 筆 • 頁數 1 •
1
評論
新增評論
分享你的心得
Export
取書館別
處理中
...
變更密碼
登入