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以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究
~
孫喜眾
以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
葉興強
其他作者:
羅正忠
其他作者:
孫喜眾
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
138頁 : 11x15公分;
標題:
電子工程 -
附註:
MOE86-0007-8511527
以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究
葉興強
以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究
/ 葉興強 撰 ; 羅正忠 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 138頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511527.
電子工程
羅正忠
以濺鍍方式沈積鉭-矽-氮擴散障礙層在銅金屬應用上之研究
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20000524
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三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
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833448600000150
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MF 448.6 4471 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
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三樓視聽資料區
3.不外借
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