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溫差液相沈積氧化矽絕緣膜之研究
~
李素貞
溫差液相沈積氧化矽絕緣膜之研究
紀錄類型:
微縮資料 : 單行本
作者:
李素貞
其他作者:
葉清發
出版地:
台北市
出版者:
國科會科學技術資料中心;
面頁冊數:
144頁 : 11x15公分;
標題:
電子工程 -
附註:
MOE86-0007-8511519
溫差液相沈積氧化矽絕緣膜之研究
李素貞
溫差液相沈積氧化矽絕緣膜之研究
/ 李素貞 撰 ; 葉清發 指導 - 台北市 : 國科會科學技術資料中心 - 144頁 ; 11x15公分.
MOE86-0007-8511519.
電子工程
葉清發
溫差液相沈積氧化矽絕緣膜之研究
LDR
:00364nhm 2200133 450
001
105759
009
8909207
100
$a
20100607 0chiy0900 e
101
$a
chi
102
$a
tw
200
1
$a
溫差液相沈積氧化矽絕緣膜之研究
$f
李素貞 撰
$g
葉清發 指導
210
$a
台北市
$c
國科會科學技術資料中心
215
$a
144頁
$d
11x15公分
300
$a
MOE86-0007-8511519
606
$a
電子工程
$3
505
700
$a
李素貞
$4
撰
$3
95040
702
$a
葉清發
$4
指導
$3
61986
801
1
$a
TW
$b
大葉大學
$c
20000524
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全部
三樓視聽資料區
館藏
2 筆 • 頁數 1 •
1
條碼號
典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
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借閱狀態
預約狀態
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附件
833448600000141
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 4051 V1
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
833448600000142
三樓視聽資料區
3.不外借
微縮資料(microform)
MF 448.6 4051 V2
1.一般(Normal)
限閱(視聽區)
0
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1
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